匀胶是光刻中相比焦炙的一步，而旋涂速率是匀胶中至关焦炙的参数万博manbext体育官网娱乐网，那么咱们在匀胶时，是奈何信托匀胶速率呢？它影响光刻胶的哪些性质？

匀胶的经过？

将一定量的光刻胶滴到衬底的中心，先以较低的速率旋转，旋转产生的离心力使光刻胶从中心到角落运转流动，并在衬底上初步铺展。随后飞速种植转速，离心力变大，过剩的光刻胶被甩出，光刻胶薄膜变薄；树脂上方的空气流动使光刻胶溶剂飞速蒸发，有助于酿成了均匀的光刻胶薄膜。旋转速率对胶厚的影响

最初，旋转速率影响的是匀胶时的离心力，公式

为：

其中：

m 是光刻胶质地。

r 是旋转半径。

ω 是角速率，（单元：rad/s）ω与转速的关连如下：

其中 N 是每分钟转数（rpm），由上头两个公式不错看出，转速越大，角速率越大，那么离心力越大。而离心力越大，光刻胶被推向衬底角落的力就越大，涂层就越薄，离心力与光刻胶厚度成反比。

那么光刻胶厚度与转速的公式为：

ℎ 是光刻胶的厚度。

N 是旋涂速率（rpm/每分钟）。

k 是光刻胶与设立的特质等所决定的。如若在其他情况不变的情况下，光刻胶的厚度与转速的二次方成反比。

旋转速率对均匀性的影响

光刻胶在高速旋转时，上方的空气流动关于匀胶的均匀性影响很大。而流体又分为层流或湍流，用雷诺数默示。凭证公式：

Re为雷诺数， � 是衬底的角速率（rad/s），�r 是衬底的半径（m），而 �v 是空气的通顺粘度。继续，空气的通顺粘度在圭臬大气压下和室温（约20°C）时约略是1.56×10-5m2/s。从公式不错看出，晶圆尺寸越大，转速越快，晶圆上方流体的雷诺数越大。

在旋涂经过中，继续不错使用上头的公式来估算雷诺数，以信托流体流动的特质。凭证熏陶，当雷诺数Re大于302000时，会被界说为过度湍流，那么光刻胶的均匀性会大打扣头。因此，旋转速率不行过高。

举个例子，以一派12inch的晶圆（半径0.15m）为例，要保证细腻的均匀性，

0.15x 0.15ω/1.56×10-5≤302000

则角速率w≤209.4

鼎新为转速N≤2000

也便是说，12inch晶圆在匀胶时最大转速不要向上2000转，2000转以上可能就会出现光刻胶均匀性着落的风险。其他尺寸晶圆的最高匀胶速率依此类推。

终末，匀胶的技术不宜过长，因为跟着匀胶技术的增多，光刻胶中的溶剂在不停地蒸发。跟着技术延伸，膜层运转干燥，这会影响其均匀性和质地，增多技术本钱，因此凭证熏陶，5微米以下的薄胶，匀胶总技术最佳不要向上一分钟。